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      • 碳化鉻
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        碳化鉻用于制造耐磨薄膜和半導體薄膜

        2021-12-31 11:55:42

        碳化鉻是一種非常重要的耐磨相,硬度是耐磨材料設計中重要的力學參數,但沒有得到較為準確的結果。

        用途:用于制造耐磨薄膜和半導體薄膜。

        實驗室制法

        金屬鉻粉末碳化法是將炭黑以比理論結合碳量11.33%i柱高13.5%~64%質量%的比例,與用電解鉻粉碎的325目的金屬鉻粉末用球磨機進行干式混合后,作為原料。 添加1%~3%硬脂酸作為成形潤滑劑. 在1 T/era2以上的壓力下加壓成形。 將該加壓成型粉末放入石墨皿或坩堝中,用渦輪機爐或感應加熱爐在氫氣流中(氫露點(一) 35左右)加熱到1500~1700,保持l h使鉻發(fā)生碳化反應,生成碳化鉻,冷卻后得到碳化鉻。 

        碳化鉻

        包裝和保管

        用玻璃瓶包裝,每瓶凈重0.5公斤或1公斤,集中在木箱內的緩沖材料上。 存放在暗處、通風、干燥的倉庫,密閉保存。 不得與無機酸、堿、可燃物一起儲存和運輸。 搬運時請輕裝輕卸,防止容器損傷。

        制造方法通常工業(yè)制造CrzC2粉末是通過將氧化鉻粉末和碳粉混合后進行高溫碳化來制造的。 目前,在碳化鉻的制備中,人們已經研究了許多方法:

        美國企業(yè)通過高能球磨鉻粉和石墨粉,在氬氣保護氣氛中、溫度800C、碳化2h的條件下得到Cr3C2粉末;1996年在zhuanliCN1176224A中,汪兆全等人以Cr2O3為鉻源,以c為還原劑按一定配比混合,按照-一定的技術路線的方法,成功生產出碳含量超過12%、炭化率超過99%的Cr3C2粉末。 該方法工藝簡單,但原粉末粒度粗,不利于炭化反應的進行。 另外,碳化溫度也很高,能量消耗也很大。 另外,產物粒度也不滿足要求,得不到良好的克制效果,不能滿足在工業(yè)中的應用。


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